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삼성전자 Device Solutions 부문의 글로벌 장비메이커인 세메스㈜는 연간 2조원 규모의
반도체/디스플레이 전공정 및 후공정 핵심장비를 개발하는 국내 최대규모의 장비 제조기업입니다.
미래의 Mechatronic Solution을 주도할 도전적이고 창의적인 인재 여러분을 초빙합니다.
세메스는 홈페이지에서 우수인력을 2018년 연중상시 채용하고 있습니다. (www.semes.com)
우수한 인재의 지원을 기다립니다.
■ 지원기간
- 2018년 2월 09일(金) ~ 2월 23일(金) 17시까지(한국시간 기준)
■ 공통 지원자격
* 국내/해외 박사 학위 보유자 (‘18년 졸업예정자 및 Post-doc 포함)
* 외국어 회화역량 우수자 우대 (영어/중국어/일본어)
* 해외여행에 결격사유가 없는 자 (병역필 또는 면제자)
■ 근무지
- 천안 / 화성 (근무지는 면접 후 배치결과에 따라 결정됩니다.)
■ 모집분야
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전공(직무) |
수행업무 |
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기계 |
* 구동 System설계(Kinematics/Dynamics, Actuator, 유공압, Motion Control)
* 초정밀 Mechanism 설계, System Robust Design, 최적 공차 설계
* 내구신뢰성: Durability Analysis, Test-rig 설계, 가속/가혹 수명평가/분석
* CAE : 구조/진동/유동해석(열,유동,기류), Modal Test, 최적설계(DOE, 계산시간),
복합장 해석(FSI, 전자기장, Chemical reaction), MD |
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제어,S/W |
* S/W 구조설계(System, Data)
* Motion Control, Embedded System, Smart UI
* Big Data, Real-Time OS Scheduler
* Image Processing, Vision Algorithm |
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전기/전자 |
* Digital/Analog(High Power) 회로설계
* Embedded CPU용 Firmware개발(EtherCAT, E/IP)
* FPGA설계(VHDL, Verilog) |
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재료/화학 |
* 소재물성분석/평가: 기계적 특성, 표면/내열특성, 내화학/전기적특성
* 내식성/내마모성 부품소재 개발
* 유/무기 합성, 촉매 등 화학반응 분석/해석 |
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요소기술 |
* Etch/Plasma 공정, RF System 최적화, Antenna 설계, Plasma Source개발
* Dielectric Etch / Conductor Etch / Selectivity Chemical 공정
* Inkjet 설비 기술: Inkjet Head, Jetting Driver, Ink 재료, Pixel Jetting, Stage 설계
* 초임계 기술
* 반도체 Photo 공정기술 : 박막 Coating, Develop, Drying
* 반도체 Cleaning & Drying : 신물질(Ge/Ⅲ-Ⅴ) 세정 메커니즘, Damage Free
* 오염 입자, Pattern Defect 연구 |
■ 지원방법
- 세메스 홈페이지(www.semes.com) > 인재채용 > 채용공고 > 2018 2월 박사채용
■ 전형절차
- 서류전형(3월초) > 면접(전문성/임원)(3월중순) > 건강검진(3월중순) > 최종결과 발표(3월 말)
■ 입사지원시 유의사항
- 채용공고에 게시된 '경력 및 연구기술서'를 작성하여 반드시 첨부하시기 바랍니다.
- 허위사실 기재 시에는 채용이 취소될 수 있습니다.
- 최종합격시 직급 및 처우는 개인별 경력을 고려하여 결정됩니다.
- 입사지원자는 지원시점부터 채용전형 전체 과정에 걸쳐
전/현직 직장(학교)의 영업(연구)비밀을 침해하는 일이 없도록 각별히 유의하시기 바랍니다.
■ 문의
- E-mail : rec.semes@semes.com - TEL : +82-41-620-8443 |
